新华网北京12月21日电(记者吴晶晶)记者近来从我国科学院微电子研究所得悉，该所集成电路先导工艺研制中心在22纳米技能代集成电路关键技能研制上获得突破性发展，把握这种工艺将有利于提高我国自主出产制作愈加质优价廉的集成电路产品的才能。

　　人们运用的电脑、手机等速度更快、耗电更省、本钱更低，这都有赖于集成电路制作工艺的不断进步。

　　据介绍，22纳米约相当于一般成年人头发丝直径的2300分之一，选用22纳米集成电路技能能够在一根头发丝的横截面上集成大约1000万个晶体管，然后使集成电路产品的功用更多样化，速度更快，本钱更低。研究人员摒弃了传统的二氧化硅、多晶硅等资料，选用了高K资料、金属栅资料等新资料新工艺，研制出了功能杰出的器材，技能水平到达国内抢先、世界一流。

　　22纳米技能代集成电路技能是全球正在研制的最新一代集成电路制作工艺。多年来，我国的集成电路制作工艺大多是在引入国外知识产权基础上进行产品工艺开发，在全球产业链最先进工艺的开发上短少布局和线年，我国在国家科技严重专项的支持下开端22纳米技能代集成电路关键技能研制作业，通过3年多尽力获得突破性发展。

　　研制人员介绍，假如我国把握了具有自主知识产权的22纳米及以下集成电路技能，能够节约引入国外技能所需的巨大资金，然后自主出产制作质优价廉的电子产品尤其是集成电路产品。

　　研制过程中，我国科学院与北京大学、清华大学、复旦大学的联合项目组完成了1369项专利申请，其间包含424项世界专利申请。